氮化鎵歐姆接觸的制備通常需要進行退火處理,退火的目的是通過熱處理改變材料的結構和性質,使金屬電極與氮化鎵之間形成低電阻接觸。而金屬與GaN之間形成歐姆接觸的質量受退火
大氣等離子清洗機是一種利用等離子體技術清洗表面的設備。它具有無需溶劑、無二次污染、高效率、節能等優點。相比傳統清洗方法,大氣等離子清洗機可以更有效地清洗表面,并廣
大氣等離子納米鍍膜可實現局部處理,在進行鍍膜處理時,無需遮蔽其他部分,不影響后續的粘膠和貼合等裝配工序,提高工作效率,降低生產成本。
眾所周知,光刻膠是半導體晶圓制造的主要材料。在晶圓制程中,光刻工藝約占整個晶圓制造成本的35%,耗時占整個晶圓工藝的40-50%,是半導體制造重要的工藝。
等離子清洗機可以用于活化不銹鋼片表面,提高材料表面活性,提高潤濕性和表面附著力,解決粘接不良的問題。
快速退火爐是利用鹵素紅外燈作為熱源,通過極快的升溫速率,將材料在極短的時間內從室溫加熱到300℃-1250℃,從而消除材料內部的一些缺陷,改善產品性能。
在粉末領域,接觸角測量儀可以用于測量粉末材料表面親疏水性能,評估表面潤濕性,極性和非極性的分布。SDC-200S科研接觸角測量儀功能齊全、拓展性能高,可測量材料表面靜/動態接