所屬分類:等離子去膠機(jī)
可BAW/SAW工藝中的光阻去除,配備單腔雙腔兩種類型
ICP 干法等離子去膠機(jī)主要用于聚合物去除、ASHING、DESCUM、離子注入后光阻去除、表面殘留物清除等。ST3100腔體適用于4-8寸樣品,單次處理片數(shù)1片;ST3200腔體適用于4-8寸樣品,單次處理片數(shù)2片。